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大連依利特Supersil Phenyl 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特Supersil SiO2 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特Supersil SCX 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特 Supersil CN 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特Supersil C4 300A 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特Supersil 120Å C4 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特Supersil C8 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 較強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
大連依利特 Supersil ODS-B 液相色譜柱 *的表面處理技術，確保硅膠表面的均一性和惰性 極低的金屬離子含量（≤10ppm） 多次封尾技術，Z大限度的消除殘余硅羥基 更強的酸、堿耐受性（pH值:1.5~10.0） 較強的分離能力 的批次重現性
